日本の半導体製造が後塵に拝する理由のひとつ
日本の半導体製造が後塵に拝する理由のひとつに、超純水の差がある。
25年前に産総研が危惧していたように、超純水分野でまけている。AIで検索すりゃわかる。
*******************************************
フッ酸（濃度60%)を使った洗浄装置を10台ほど国内企業に納入してきたが、「テフロンはフッ酸でゆっくりと溶ける」。 テフロン槽の補修は3年に一回手程度必要。 まあ、フッ酸の匂いを嗅いで生きているほうが不思議でもある。 ボンデイングマシーンは新川のはオペレートしてきた。
産総研が超純水度を危惧して予算つけしたテーマがあって、富士電機（東京）からオイラに声がかかった。 ぼかして説明するものだから、要領を得ずに時間だけ過ぎた思い出。フッ酸での洗浄装置をきちんとつくれるのは国内に3社もある。
hoya メガネが epson 松島事業所をただで譲渡してもらってから15年くらい経つね。
hoya の山梨工場では hdd 2.5インチ向けアルミ円盤を製造しておる。 洗浄装置はオイラの設計ではないが、メンテナンスに数回通った。 リーダーだけ日本人。 あとは異人さんの構成。
コメント